产品名称：T-ZnOw-SiO2-N3；叠氮改性二氧化硅包覆四针状氧化锌晶须微粒

一、概述

T-ZnOw-SiO2-N3是指经过叠氮改性二氧化硅包覆的四针状氧化锌晶须微粒（Tetra-needle like ZnO whiskers coated with azide-modified SiO2，简称T-ZnOw-SiO2-N3）。这种微粒结合了四针状氧化锌晶须（T-ZnOw）的良好性能与二氧化硅（SiO2）的包覆保护以及叠氮基团的特殊化学性质，为材料科学领域带来了新的应用前景。

二、组成与结构

四针状氧化锌晶须（T-ZnOw）：

结构：T-ZnOw具有三维四针状立体结构，即晶须有一核心，从核心径向方向伸展出四根针状晶体，每根针状体均为单晶体微纤维，任两根针状体的夹角为109°。

性能：具有超高强度、各向同性、良好的耐热性、可调的电学性能以及纳米半导体活性等良好性能。

二氧化硅包覆层（SiO2）：

作用：SiO2包覆层能够保护T-ZnOw免受外界环境的影响，提高其稳定性和耐久性。

特性：SiO2具有良好的化学稳定性和热稳定性，能够有效隔离水分、氧气等有害因素。

叠氮改性：

改性方法：通过化学反应将叠氮基团（–N3）引入到SiO2包覆层中，实现叠氮改性。

改性效果：叠氮基团的引入为微粒提供了更多的化学活性位点，增强了其与其他分子的反应能力，同时可能赋予微粒新的功能特性。

三、制备方法

T-ZnOw-SiO2-N3的制备通常涉及以下步骤：

制备T-ZnOw：采用气相法、液相法或微波加热等方法制备四针状氧化锌晶须。

SiO2包覆：通过溶胶-凝胶法、化学气相沉积法等方法将SiO2包覆在T-ZnOw表面。

叠氮改性：利用化学反应将叠氮基团引入到SiO2包覆层中，实现叠氮改性。

四、应用前景

T-ZnOw-SiO2-N3微粒结合了T-ZnOw的良好性能和SiO2的包覆保护以及叠氮基团的特殊化学性质，具有广泛的应用前景：

增强材料：作为增强材料用于高分子、金属和陶瓷复合材料中，显著提高材料的力学性能和加工性能。

抗静电材料：利用T-ZnOw的导电性能制备抗静电复合材料，用于涂料、塑料、纤维等领域。

抗菌防藻材料：利用T-ZnOw的纳米半导体活性制备抗菌防藻复合材料，用于家电、日用品、纺织品等领域。

其他应用：还可用于微波吸收材料、减振降噪材料、陶瓷增韧材料等领域。

产地：西安

纯度：95%以上

状态：固体/粉末/溶液

温馨提示：仅用于科研，不能用于人体实验！wyh

西安齐岳生物科技有限公司经营的产品种类包括有：点击化学产品、合成磷脂、高分子聚乙二醇衍生物、嵌段共聚物、磁性纳米颗粒、纳米金及纳米金棒、近红外荧光染料、活性荧光染料、荧光标记的葡聚糖BSA和链霉亲和素、蛋白交联剂、小分子PEG衍生物、树枝状聚合物、环糊精衍生物、大环配体类、荧光量子点、透明质酸衍生物、石墨烯或氧化石墨烯、碳纳米管、富勒烯，二氧化硅及介孔二影产品，荧光蛋白及荧光探针等，欢迎咨询。

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