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二氧化硅修饰石墨烯量子点SiO2@GQDs的制作过程以及实际应用
发布时间:2025-02-26     作者:WYQ   分享到:

制作过程:

二氧化硅修饰石墨烯量子点的制作过程通常涉及将石墨烯量子点分散在溶剂中,然后加入二氧化硅前驱体(如硅烷偶联剂),通过化学反应在GQDs表面形成一层二氧化硅壳层。这种修饰方法可以提高GQDs的稳定性、分散性和生物相容性。

实际应用:

二氧化硅修饰的石墨烯量子点在生物医学、光电器件和传感器等领域具有潜在应用。二氧化硅壳层可以保护GQDs免受环境因素的干扰,同时提供额外的功能化位点,用于连接生物分子或药物分子。此外,二氧化硅的优异光学性能还可以使GQDs在光电器件中发挥更好的性能。

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