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陶瓷靶材 ceramic target
发布时间:2024-01-22     作者:lcy   分享到:

名称:陶瓷靶材 ceramic target

产地:西安

供应商:西安齐岳生物科技有限公司

简介:

陶瓷靶材是一种用于物理蒸发沉积(PVD)或化学气相沉积(CVD)等薄膜沉积技术的基础材料。这些技术通常用于制备薄膜材料,如用于半导体器件、光学涂层、装饰性涂层等。陶瓷靶材通常是高纯度的陶瓷材料,其制备过程中需要控制杂质含量和晶粒大小,以确保沉积的薄膜具有良好的性能。常见的陶瓷靶材包括氧化铝(Al2O3)、氮化硼(BN)、氮化硅(Si3N4)、氧化锆(ZrO2)等。这些材料通常用于制备薄膜,例如氧化铝靶材可用于制备透明导电薄膜、氮化硼靶材可用于制备硼氮化物薄膜等。

陶瓷靶材 ceramic target

规格:1mg 5mg 10mg

纯度:99%

用途:仅用于科研

状态:固体/粉末

储藏条件:冷藏-20℃

温馨提示:仅用于科研,不能用于人体实验!

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