石墨烯单层CVD石墨烯-Si/SiO2基底(1cm*1cm)

石墨烯单层CVD石墨烯-Si/SiO2基底是指通过化学气相沉积（CVD）方法，在硅（Si）衬底上生长的石墨烯单层。Si/SiO2基底是一种常用的硅基底材料，具有Si衬底和上面的氧化硅（SiO2）层，可提供较好的平整度和稳定性，适合用于石墨烯生长。

制备石墨烯单层CVD石墨烯-Si/SiO2基底的一般步骤如下：

准备Si/SiO2基底： 获得Si/SiO2基底，通常是通过硅片上生长一层氧化硅来制备的。然后对SiO2表面进行清洁处理，以确保表面的干净和平整。

石墨烯生长： 在CVD反应室中，将碳源气体（如甲烷、乙烯等）和载气气体（如氢气）导入反应室，通过加热硅基底至适当温度，使碳源气体在表面分解并形成石墨烯

1)层数可定制：

实现单层、双层、多层等**石墨烯定制服务。

(2)多种基底石墨烯定制化服务：

为客户提供多种基底石墨烯，如PDMS、玻璃、石英、云母、硅片、二氧化硅等石墨烯转移服务。

(3)特殊方法石墨烯定制化服务：

如掺杂石墨烯、SiC超高载流子迁移率石墨烯定制化服务

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包装规格：5mg、10mg、50mg、100mg

纯度：95%+

储藏条件：常温干燥避光保存，保存期限6个月

用途：科研

状态：固体/粉末/溶液

厂家：西安齐岳生物

温馨提醒：仅供科研，不能用于人体实验AXC.2024.04.01