AR-P 5910 耐HF酸刻蚀光刻胶，正胶
耐HF酸刻蚀光刻胶，正胶 对基底有很好的粘附性，一般用于低浓度的HF，在5% 以下的HF 酸中有很好的保护作用。
| 货号 | 规格 | 数量 | 价格 |
|---|---|---|---|
| Q-0101316 | 100mg |
1
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询价 |
| Q-0101316 | 250mg |
1
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询价 |
| Q-0101316 | 500mg |
1
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询价 |
| Q-0101316 | 1g |
1
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询价 |
| Q-0101316 | 5g |
1
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询价 |
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张惠宁销售经理
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AR-P 5910 |
耐HF酸刻蚀光刻胶，正胶 |
类别：一种光刻胶
供应商：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科研
| 参数信息 | |
|---|---|
| 外观状态： | 固体或粉末 |
| 质量指标： | 95%+ |
| 溶解条件： | 有机溶剂/水 |
| CAS号： | N/A |
| 分子量： | N/A |
| 储存条件： | -20℃避光保存 |
| 储存时间： | 1年 |
| 运输条件： | 室温2周 |
| 生产厂家： | 西安齐岳生物科技有限公司 |
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