电子束光刻胶 （e-beam resist）正胶 SX AR-P 6200
超高分辨率电子束正胶，通过简单的工艺即可得到10nm甚至更小的结构。超高深宽比（20:1）、超高对比度（>15）。良好的耐干法刻蚀性能，是传统PMMA胶的2倍。 完全可以取代ZEP胶，经济实惠，并且采购简单，包装规格多样化。
| 货号 | 规格 | 数量 | 价格 |
|---|---|---|---|
| Q-0101337 | 100mg |
1
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询价 |
| Q-0101337 | 250mg |
1
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询价 |
| Q-0101337 | 500mg |
1
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询价 |
| Q-0101337 | 1g |
1
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询价 |
| Q-0101337 | 5g |
1
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询价 |
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张惠宁销售经理
17778955912
1521565887
业务范围：AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG
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电子束光刻胶 （e-beam resist）
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类型 |
型号 |
特性 |
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正胶 |
SX AR-P 6200 NEW! |
超高分辨率电子束正胶，通过简单的工艺即可得到10nm甚至更小的结构。超高深宽比（20:1）、超高对比度（>15）。良好的耐干法刻蚀性能，是传统PMMA胶的2倍。 完全可以取代ZEP胶，经济实惠，并且采购简单，包装规格多样化。 |
| 参数信息 | |
|---|---|
| 外观状态： | 固体或粉末 |
| 质量指标： | 95%+ |
| 溶解条件： | 有机溶剂/水 |
| CAS号： | N/A |
| 分子量： | N/A |
| 储存条件： | -20℃避光保存 |
| 储存时间： | 1年 |
| 运输条件： | 室温2周 |
| 生产厂家： | 西安齐岳生物科技有限公司 |
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