AR-P 5300 Lift-off工艺用胶

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AR-P 5300 Lift-off工艺用胶，利用普通的光刻工艺便可很容易得进行剥离工艺。高敏感、高分辨率，且与金属和氧化物表面附着良好。

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张惠宁销售经理

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产品介绍

AR-P 5300 Lift-off工艺用胶，利用普通的光刻工艺便可很容易得进行剥离工艺。高敏感、高分辨率，且与金属和氧化物表面附着良好。
类别：一种光刻胶
供应商：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科研

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紫外光刻胶（Photoresist）

类型	型号	特性
正胶	AR-P 1200	适合喷涂（Spray Coating）的正性光刻胶，高灵敏度。胶层表面非常平整,且可很好的保护粗糙的衬底表面，可用于复杂工艺。
	AR-P 3100	高灵敏度光刻胶.胶膜薄且均匀. 在玻璃和镀铬表面附着力好，可用于光学器件加工,掩膜制作等。另有，AR-P 3170 可以做出 100nm，甚至更小的线条（几十纳米）。
	AR-P 3200	黏度大，可得到厚胶膜，厚度可达几十微米，甚至上百微米。胶膜覆盖能力好，适合粗糙的 Wafer 表面涂胶，可很好的保护结构边缘。图形剖面边缘陡直。适合做LIGA或电镀工艺等。
	AR-P 3500 AR-P 3500T	于集成电路制造中的掩膜加工。高敏感、高分辨率且在金属和氧化物表面附着力好。其中，AR-P 3500T是针对 AR-P 3500 系列进行优化，而新研制的一种光刻胶；性能和AR-P 3500相似，同时还具备了良好的耐等离子刻蚀性能，以及大的工艺宽容度。
	AR-P 3740 AR-P 3840	高分辨率光刻胶，制作亚微米结构，适于高集成电路制作。光刻胶表面平整均匀，高敏感度、高对比、工艺宽容度大。 AR-P 3840为染色的光刻胶，可以降低驻波和散射等的影响。
	AR-P 5300	Lift-off工艺用胶，利用普通的光刻工艺便可很容易得进行剥离工艺。高敏感、高分辨率，且与金属和氧化物表面附着良好。

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