SPR220 正性光刻胶，用于MEMS和Bump工艺

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SPR220 g/h/i-Line 1—30 1um 正性光刻胶，用于MEMS和Bump工艺

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张惠宁销售经理

业务范围：AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG

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产品介绍

宽带厚胶 SU-8 10系列

产品名称：宽带厚胶

类型	光刻胶型号	适用光谱	厚度范围/um	分辨率	适用工艺
宽带厚胶	SU-8 10系列	g/h/i-Line	0.1-200	0.5um	负性环氧类化学放大光刻胶，具有高深宽比，光刻后可以达到非常好的陡直度.
	导电SU-8（GCM3060）	g/h/i-Line	1-50	0.5um	负性环氧类光刻胶；可导电、粘合性较好，图层应力降低
	SPR220	g/h/i-Line	1—30	1um	正性光刻胶，用于MEMS和Bump工艺
	NR26-25000P	g/h/i-Line	20-130		负性光刻胶，适用于各类接触式光刻机（mask aligner）、stepper、scanner
	AZ P4620	g/h/i-Line	6—20	1um	正性光刻胶

400-6966-012