CVD硅基底石墨烯膜是通过化学气相沉积法(CVD)在硅基底上沉积的石墨烯薄膜,尺寸为1cm x 1cm。
| 货号 | 规格 | 数量 | 价格 |
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| Q-0373730 | 100mg |
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| Q-0373730 | 250mg |
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| Q-0373730 | 500mg |
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| Q-0373730 | 1g |
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| Q-0373730 | 5g |
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产品名称:CVD硅基底石墨烯膜 1cm x 1cm,CVD Silicon Substrate Graphene Film 1cmx1cm
一、基本描述
中文名:CVD硅基底石墨烯膜 1cm x 1cm
英文名:CVD Silicon Substrate Graphene Film 1cm x 1cm
CVD硅基底石墨烯膜是通过化学气相沉积法(CVD)在硅基底上沉积的石墨烯薄膜,尺寸为1cm x 1cm。硅基底石墨烯膜通常用于微电子器件、传感器以及其他需要集成在硅基板上的应用。
二、物理化学性质及应用
物理化学性质:
这种石墨烯膜展现了较高的电子迁移率、导电性和热导性。硅基底为其提供了较好的支撑,并且具有较强的热稳定性。石墨烯的导电性和硅的良好结合使其成为理想的微电子和光电子材料。
结构特性:
石墨烯膜通常为单层或少层结构,具有较高的结晶度和电子迁移率。膜表面光滑,适合于集成电路和纳米电子设备。由于硅的常见应用和集成性,石墨烯膜与硅基底具有良好的兼容性。
应用:
CVD硅基底石墨烯膜可用于微电子器件、传感器、透明导电膜、光电器件、集成电路、纳米电子设备等领域。其高导电性和可调节的电子特性使其在高频和高性能电子器件中具有广泛应用。
三、合成路线
通过CVD方法,将甲烷、乙烯等碳源气体与氢气或氩气混合,在高温下通过催化剂分解,石墨烯沉积在硅基底上。调节温度、气体流量及反应时间可以控制石墨烯膜的厚度和质量,通常合成的石墨烯膜为单层或少层结构。
厂家:西安齐岳生物科技有限公司
用途:科研
温馨提醒:产品仅供科研,不能用于人体实验!
关于我们
西安齐岳生物科技有限公司是一家专注于高品质荧光染料及其标记衍生物研发、生产和销售的创新型企业。公司主要产品涵盖FITC、Cy3、Cy5、Cy5.5、Cy7、Alexa系列、Rhodamine、TRITC、ICG等多种主流荧光探针,广泛应用于生命科学研究、细胞成像、药物靶向示踪、免疫检测、纳米材料标记及荧光传感等多个领域。齐岳生物依托先进的技术研发团队和完善的生产设施,为全球科研工作者提供高纯度、高活性、批次一致性好的荧光标记试剂。我们还提供定制化服务,满足不同客户在小分子、肽类、多糖、蛋白、聚合物等化合物标记方面的需求,帮助客户实现精准高效的荧光分析和示踪实验。
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| 参数信息 | |
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| 外观状态: | 固体或粉末 |
| 质量指标: | 95%+ |
| 溶解条件: | 有机溶剂/水 |
| CAS号: | N/A |
| 分子量: | N/A |
| 储存条件: | -20℃避光保存 |
| 储存时间: | 1年 |
| 运输条件: | 室温2周 |
| 生产厂家: | 西安齐岳生物科技有限公司 |
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