产品名称：CVD氧化硅基底石墨烯膜 4英寸，CVD Silica Substrate Graphene Film 4 Inches
一、基本描述
中文名：CVD氧化硅基底石墨烯膜 4英寸
英文名：CVD Silica Substrate Graphene Film 4 Inches
CVD氧化硅基底石墨烯膜是通过化学气相沉积法（CVD）在4英寸氧化硅基底上沉积的石墨烯薄膜。氧化硅基底具有较高的化学稳定性和良好的热稳定性，适用于高精度电子器件、光电器件以及传感器等高端应用。
二、物理化学性质及应用
物理化学性质：
这种石墨烯膜具有优良的导电性和热导性，石墨烯的二维结构提供了高的电子迁移率。氧化硅基底的稳定性和石墨烯的高导电性相结合，使其在高性能电子器件中具有重要作用。
结构特性：
石墨烯膜通常为单层或少层结构，通过CVD法沉积在4英寸氧化硅基底上。氧化硅基底提供了一个平整的表面，石墨烯膜的厚度通常为几个原子层，质量高且均匀性好。
应用：
CVD氧化硅基底石墨烯膜主要应用于高频电子器件、光电器件、传感器、集成电路等领域。由于其优良的导电性和热导性，广泛应用于纳米电子学、光电器件以及纳米技术相关的应用。
三、合成路线
通过CVD法，将碳源气体（如甲烷、乙烯）与氢气和氩气等气体混合，在高温下通过金属催化剂（如铜、镍等）分解，碳源气体中的碳原子沉积到氧化硅基底上形成石墨烯膜。通过调节气体流量、温度和反应时间，可以精确控制石墨烯膜的厚度和质量。

厂家：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科研
温馨提醒：产品仅供科研，不能用于人体实验!

关于我们
西安齐岳生物科技有限公司是一家专注于高品质荧光染料及其标记衍生物研发、生产和销售的创新型企业。公司主要产品涵盖FITC、Cy3、Cy5、Cy5.5、Cy7、Alexa系列、Rhodamine、TRITC、ICG等多种主流荧光探针，广泛应用于生命科学研究、细胞成像、药物靶向示踪、免疫检测、纳米材料标记及荧光传感等多个领域。齐岳生物依托先进的技术研发团队和完善的生产设施，为全球科研工作者提供高纯度、高活性、批次一致性好的荧光标记试剂。我们还提供定制化服务，满足不同客户在小分子、肽类、多糖、蛋白、聚合物等化合物标记方面的需求，帮助客户实现精准高效的荧光分析和示踪实验。

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