CVD铜基石墨烯薄膜是通过化学气相沉积(CVD)法将石墨烯薄膜沉积在铜基底上的材料,应用于电子器件、传感器、能源存储等领域。
| 货号 | 规格 | 数量 | 价格 |
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| Q-0373831 | 100mg |
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| Q-0373831 | 250mg |
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| Q-0373831 | 500mg |
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| Q-0373831 | 1g |
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| Q-0373831 | 5g |
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产品名称:CVD铜基石墨烯薄膜 3cm x 3cm,CVD Copper-Based Graphene Film 3cm x 3cm
一、基本描述
中文名:CVD铜基石墨烯薄膜 3cm x 3cm
英文名:CVD Copper-Based Graphene Film 3cm x 3cm
CVD铜基石墨烯薄膜是通过化学气相沉积(CVD)法将石墨烯薄膜沉积在铜基底上的材料。铜作为基底具有优良的热导性和良好的机械性能,可以促进石墨烯的生长,同时提供支持。这种薄膜广泛应用于电子器件、传感器、能源存储等领域。
二、物理化学性质及应用
物理化学性质:
CVD铜基石墨烯薄膜具有优良的电导性和热导性。铜基底的导热性能可以有效地促进石墨烯膜的热量传递。石墨烯本身具有较高的电子迁移率,使其在导电性方面表现出色。铜基底提供了一定的柔性和机械强度,同时具有较高的稳定性和低表面粗糙度,有利于石墨烯薄膜的均匀生长。
结构特性:
该薄膜的结构通常为单层或少层石墨烯,沉积在铜基底上。由于铜基底的平整性和稳定性,石墨烯薄膜具有较好的晶体质量。膜的厚度通常为几个原子层,且具有较好的表面平整度。
应用:
CVD铜基石墨烯薄膜主要应用于电子器件(如场效应晶体管)、传感器、导电薄膜、热管理材料、光电器件、超级电容器等领域。由于石墨烯的高导电性和铜基底的优良热导性,该材料在热电子设备、透明导电膜等应用中有重要的潜力。
三、合成路线
通过CVD法,铜基底上沉积石墨烯薄膜。首先在铜基底上加热至适当的温度,然后通过引入碳源气体(如甲烷)和其他气体(如氢气和氩气)在高温下反应,碳源气体分解,碳原子在铜表面形成石墨烯薄膜。该过程能够通过调节气体流量、温度和时间控制石墨烯薄膜的质量和厚度。
厂家:西安齐岳生物科技有限公司
用途:科研
温馨提醒:产品仅供科研,不能用于人体实验!
关于我们
西安齐岳生物科技有限公司是一家专注于高品质荧光染料及其标记衍生物研发、生产和销售的创新型企业。公司主要产品涵盖FITC、Cy3、Cy5、Cy5.5、Cy7、Alexa系列、Rhodamine、TRITC、ICG等多种主流荧光探针,广泛应用于生命科学研究、细胞成像、药物靶向示踪、免疫检测、纳米材料标记及荧光传感等多个领域。齐岳生物依托先进的技术研发团队和完善的生产设施,为全球科研工作者提供高纯度、高活性、批次一致性好的荧光标记试剂。我们还提供定制化服务,满足不同客户在小分子、肽类、多糖、蛋白、聚合物等化合物标记方面的需求,帮助客户实现精准高效的荧光分析和示踪实验。
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| 参数信息 | |
|---|---|
| 外观状态: | 固体或粉末 |
| 质量指标: | 95%+ |
| 溶解条件: | 有机溶剂/水 |
| CAS号: | N/A |
| 分子量: | N/A |
| 储存条件: | -20℃避光保存 |
| 储存时间: | 1年 |
| 运输条件: | 室温2周 |
| 生产厂家: | 西安齐岳生物科技有限公司 |
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