单层氮化硼薄膜（HBN）Si/SiO₂基以单层六方氮化硼（HBN）为核心，通过化学气相沉积法生长于硅/二氧化硅基底表面，晶粒尺寸＞4μm，覆盖率均匀。HBN薄膜具有优异的化学稳定性和绝缘性，可作为金属-绝缘体-金属结构的超薄间隔层，或作为电子隧道阻挡层应用于纳米电容器、场效应隧道晶体管等器件。其Si/SiO₂基底兼容主流微电子工艺，便于与硅基电路集成。产品需常温干燥避光密封保存，保质期1年，广泛应用于二维材料器件研发及纳米电子学研究领域。

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供应商：西安齐岳生物科技有限公司
公司简介：
西安齐岳生物科技有限公司深耕无机纳米材料领域，精心打造多元化产品矩阵。核心产品包括：高分散性金/银纳米线、超均匀球形二氧化硅纳米颗粒、纳米氧化铟、生物相容性四氧化三铁磁性纳米粒子、荧光量子点（CdSe/ZnS、CdTe等）、多孔金属有机框架（MOF）纳米材料，以及表面功能化修饰的纳米载体（如叶酸/生物素偶联纳米颗粒、多刺激响应型智能纳米胶囊）。产品粒径精准可控（5-2000纳米），支持定制化开发。
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