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一步转移氮化硼薄膜,CAS:7440-42-8,One-step Transfer Boron Nitride Film

一步转移氮化硼薄膜采用化学气相沉积(CVD)法在金属基底(如铜、镍)上生长高质量六方氮化硼(h-BN)薄膜。

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产品介绍

一步转移氮化硼薄膜采用化学气相沉积(CVD)法在金属基底(如铜、镍)上生长高质量六方氮化硼(h-BN)薄膜,通过聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)辅助转移技术,将薄膜完整转移至目标基底(如硅片、玻璃、PET)。该工艺避免传统湿法转移中的破损与污染问题,操作简便且成本可控。氮化硼薄膜具有高介电常数、高温热稳定性及抗氧化性,在电子器件封装、柔性电容器、深紫外发光器件等领域应用广泛。其晶粒尺寸通常大于4微米,厚度可定制,适用于实验室研究与小规模工业生产。

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供应商:西安齐岳生物科技有限公司
公司简介:
西安齐岳生物科技有限公司深耕无机纳米材料领域,精心打造多元化产品矩阵。核心产品包括:高分散性金/银纳米线、超均匀球形二氧化硅纳米颗粒、纳米氧化铟、生物相容性四氧化三铁磁性纳米粒子、荧光量子点(CdSe/ZnS、CdTe等)、多孔金属有机框架(MOF)纳米材料,以及表面功能化修饰的纳米载体(如叶酸/生物素偶联纳米颗粒、多刺激响应型智能纳米胶囊)。产品粒径精准可控(5-2000纳米),支持定制化开发。
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参数信息
外观状态: 固体或粉末
质量指标: 95%+
溶解条件: 有机溶剂/水
CAS号: N/A
分子量: N/A
储存条件: -20℃避光保存
储存时间: 1年
运输条件: 室温2周
生产厂家: 西安齐岳生物科技有限公司
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