GS二氧化硅基底单层氮化硼薄膜以二氧化硅为基底，表面覆盖单层六方氮化硼（h-BN）。六方氮化硼具有类石墨层状结构，层内由硼（B）和氮（N）原子通过强共价键交替排列形成六元环，层间通过范德华力结合，赋予其高润滑性、高电阻率及*的热稳定性（熔点约3000℃）。作为绝缘材料，其电阻率可达10¹⁰ Ω·cm以上，适用于电子器件中的绝缘层或高温环境下的保护涂层。此外，h-BN在X射线及可见光区域透明，可用于电致发光器件的透明绝缘层或亚纳米级集成电路的X射线掩膜。其化学惰性使其不易与金属发生反应，是高温真空设备的理想内壁涂层材料。
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供应商：西安齐岳生物科技有限公司
公司简介：
西安齐岳生物科技有限公司深耕无机纳米材料领域，精心打造多元化产品矩阵。核心产品包括：高分散性金/银纳米线、超均匀球形二氧化硅纳米颗粒、纳米氧化铟、生物相容性四氧化三铁磁性纳米粒子、荧光量子点（CdSe/ZnS、CdTe等）、多孔金属有机框架（MOF）纳米材料，以及表面功能化修饰的纳米载体（如叶酸/生物素偶联纳米颗粒、多刺激响应型智能纳米胶囊）。产品粒径精准可控（5-2000纳米），支持定制化开发。
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