CVD二氧化硅/硅基底单层二硒化钼是一种采用化学气相沉积（CVD）技术制备的材料。它以二氧化硅/硅作为基底，在其表面生长出单层的二硒化钼。二硒化钼作为一种二维过渡金属硫族化合物，具有独特的层状结构。这种单层结构使其在电子传输方面展现出良好的性能，在电子器件领域有潜在应用价值。二氧化硅/硅基底为二硒化钼提供了稳定的支撑平台，有助于保持其单层结构的完整性。该材料在纳米电子学、光电器件等领域受到关注，研究人员致力于探索其更多性能，以推动相关领域的技术发展。
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西安齐岳生物科技有限公司深耕无机纳米材料领域，精心打造多元化产品矩阵。核心产品包括：高分散性金/银纳米线、超均匀球形二氧化硅纳米颗粒、纳米氧化铟、生物相容性四氧化三铁磁性纳米粒子、荧光量子点（CdSe/ZnS、CdTe等）、多孔金属有机框架（MOF）纳米材料，以及表面功能化修饰的纳米载体（如叶酸/生物素偶联纳米颗粒、多刺激响应型智能纳米胶囊）。产品粒径精准可控（5-2000纳米），支持定制化开发。
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