X AR-P 5900/4

耐碱刻蚀光刻胶，正胶
主要用于耐碱刻蚀以及保护层。光刻胶可以在2n（2mol/L）的NaOH中可以稳定很长时间。

AR-BR 5400

双层Lift-Off工艺底层胶
可以得到稳定的Lift-off结构，利于金属的沉积。在制作双层工艺时，需要和正胶AR-P 3500或AR-P 3500T配合使用。从270nm到红外区，有良好的光学透明性，热稳定性好。

AR-PC 500

耐酸碱保护胶
在酸碱中有很好的耐刻蚀性能，不含光敏物质。尤其在碱性环境（40% KOH）中非常稳定。一般涂于衬底背面，防止刻蚀工艺中的化学物质损害其背面结构。503颜色为黑色，较504耐刻蚀性能稍弱。

SX AR-PC 5000/40

耐酸碱保护胶
在酸碱中有很好的耐刻蚀性能，不含光敏物质。在40%的KOH和50%的HF中，具有很好的保护作用的，耐刻蚀时间可以长达数小时。另外，还可以和正胶配合使用，通过双层工艺来制作图形。

AR-P 5910

耐HF酸刻蚀光刻胶，正胶
对基底有很好的粘附性，一般用于低浓度的HF，在5% 以下的HF 酸中有很好的保护作用。