产品 文章

您当前所在位置：首页 > 功能化学 > 发光材料 > 功能性发光材料 > 光刻胶系列 > SX AR-PC 5000/82 聚酰亚胺光刻胶，紫外正胶 热稳定性光刻胶，正胶
SX AR-PC 5000/82 聚酰亚胺光刻胶，紫外正胶 热稳定性光刻胶，正胶

SX AR-PC 5000/82 聚酰亚胺光刻胶，紫外正胶 热稳定性光刻胶，正胶，在400℃时仍然很稳定。具有良好的耐等离子刻蚀性能，可用于离子注入工艺。

货号 规格 数量 价格
Q-0101319 100mg
1
询价
Q-0101319 250mg
1
询价
Q-0101319 500mg
1
询价
Q-0101319 1g
1
询价
Q-0101319 5g
1
询价
快速订购/大包装咨询
张惠宁销售经理
17778955912
1521565887
{$sources->name}}
业务范围：AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG
如该产品产生售后问题，请联系我们：

1521565887@qq.com

产品介绍

SX AR-PC 5000/82

聚酰亚胺光刻胶，紫外正胶
热稳定性光刻胶，正胶，在400℃时仍然很稳定。具有良好的耐等离子刻蚀性能，可用于离子注入工艺。

SX AR-PC 5000/82
SX AR-PC 5000/82
聚酰亚胺光刻胶，紫外正胶
热稳定性光刻胶，正胶，在400℃时仍然很稳定。具有良好的耐等离子刻蚀性能，可用于离子注入工艺。
类别：一种光刻胶
供应商：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科研

参数信息
外观状态： 固体或粉末
质量指标： 95%+
溶解条件： 有机溶剂/水
CAS号： N/A
分子量： N/A
储存条件： -20℃避光保存
储存时间： 1年
运输条件： 室温2周
生产厂家： 西安齐岳生物科技有限公司
相关产品
KrF深紫外光刻胶系列 DK2060 DK3030 DKN1100

KrF深紫外光刻胶系列 DK2060 DK3030 DKN1100

DK1089 DK1087 KrF深紫外光刻胶系列

DK1089 DK1087 KrF深紫外光刻胶系列

SX AR-PC 5000/80 聚酰亚胺光刻胶

聚酰亚胺光刻胶，不含光敏物质 热稳定性光刻胶，在400℃时仍然很稳定。不含光敏物质，但是可以和正胶配合使用，通过双层工艺来制作图形。可以用于制作传感器材料、保护层及绝缘层。

X AR-P 5900/4 耐碱刻蚀光刻胶，正胶

主要用于耐碱刻蚀以及保护层。光刻胶可以在2n（2mol/L）的NaOH中可以稳定很长时间。