SX AR-P 3500/6 全息曝光用胶，正胶

订单热线

400-6966-012

您当前所在位置：首页 > 功能化学 > 发光材料 > 功能性发光材料 > 光刻胶系列 > SX AR-P 3500/6 全息曝光用胶，正胶

SX AR-P 3500/6 全息曝光用胶，正胶

在长波段具有很好的灵敏度，敏感波段为（308 – 500nm），主要用于全息曝光工艺。

货号	规格	数量	价格
Q-0101321	100mg	1	询价
Q-0101321	250mg	1	询价
Q-0101321	500mg	1	询价
Q-0101321	1g	1	询价
Q-0101321	5g	1	询价

快速订购/大包装咨询

张惠宁销售经理

{$sources->name}}

业务范围：AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG

如该产品产生售后问题，请联系我们：

1521565887@qq.com

产品介绍

SX AR-P 3500/6

全息曝光用胶，正胶
在长波段具有很好的灵敏度，敏感波段为（308 – 500nm），主要用于全息曝光工艺。

SX AR-P 3500/6

全息曝光用胶，正胶
在长波段具有很好的灵敏度，敏感波段为（308 – 500nm），主要用于全息曝光工艺。

类别：一种光刻胶
供应商：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科
研

参数信息
外观状态：	固体或粉末
质量指标：	95%+
溶解条件：	有机溶剂/水
CAS号：	N/A
分子量：	N/A
储存条件：	-20℃避光保存
储存时间：	1年
运输条件：	室温2周
生产厂家：	西安齐岳生物科技有限公司

相关产品

KrF深紫外光刻胶系列 DK2060 DK3030 DKN1100

KrF深紫外光刻胶系列 DK2060 DK3030 DKN1100

DK1089 DK1087 KrF深紫外光刻胶系列

DK1089 DK1087 KrF深紫外光刻胶系列

X AR-P 5800/7 深紫外曝光胶，正胶

深紫外曝光（248 - 265 nm 和300 - 450 nm），在这个波长范围内，光刻胶的透射率高。耐刻蚀性能好。适合接触曝光，曝光过程中，产生的氮气少，可以提高图形质量。

SX AR-PC 5000/82 聚酰亚胺光刻胶，紫外正胶热稳定性光刻胶，正胶

SX AR-PC 5000/82 聚酰亚胺光刻胶，紫外正胶热稳定性光刻胶，正胶，在400℃时仍然很稳定。具有良好的耐等离子刻蚀性能，可用于离子注入工艺。