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SX AR-N 4810/1 有机溶剂显影光刻胶（用于无水环境），负胶 基于PMMA的负胶

SX AR-N 4810/1 有机溶剂显影光刻胶（用于无水环境），负胶 基于PMMA的负胶，曝光波长230 – 440nm。主要用于工艺中衬底材料对水敏感，需要无水环境操作的情况。采用有机溶剂显影，避免了水或潮气对衬底材料的破坏。

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产品介绍

SX AR-N 4810/1

有机溶剂显影光刻胶（用于无水环境），负胶
基于PMMA的负胶，曝光波长230 – 440nm。主要用于工艺中衬底材料对水敏感，需要无水环境操作的情况。采用有机溶剂显影，避免了水或潮气对衬底材料的破坏。

 

SX AR-N 4810/1

有机溶剂显影光刻胶（用于无水环境），负胶
基于PMMA的负胶，曝光波长230 – 440nm。主要用于工艺中衬底材料对水敏感，需要无水环境操作的情况。采用有机溶剂显影，避免了水或潮气对衬底材料的破坏。
类别：一种光刻胶
供应商：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科研

参数信息
外观状态： 固体或粉末
质量指标： 95%+
溶解条件： 有机溶剂/水
CAS号： N/A
分子量： N/A
储存条件： -20℃避光保存
储存时间： 1年
运输条件： 室温2周
生产厂家： 西安齐岳生物科技有限公司
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