PMMA(polymethyl methacrylate)是电子束曝光工艺中常用的正性挂面光刻胶,是由单体甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)经聚合反应而成。 PMMA胶主要的特点是高分辨率、高对比度、低灵敏度。
货号 | 规格 | 数量 | 价格 |
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Q-0101339 | 100mg |
1
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询价 |
Q-0101339 | 250mg |
1
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询价 |
Q-0101339 | 500mg |
1
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询价 |
Q-0101339 | 1g |
1
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询价 |
Q-0101339 | 5g |
1
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询价 |

PMMA |
PMMA(polymethyl methacrylate)是电子束曝光工艺中常用的正性挂面光刻胶,是由单体甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)经聚合反应而成。 PMMA胶主要的特点是高分辨率、高对比度、低灵敏度。 PMMA胶种类齐全,不同的系列中包含了各种分子量(50K, 200K, 600K, 950K),各种溶剂(氯苯,乳酸乙酯,苯甲醚)以及各种固含量的PMMA胶,以满足各类电子束光刻的工艺要求。 PMMA胶可用于单层或双层电子束曝光、转移碳纳米管或石墨烯、绝缘层等多种工艺。 (注:工厂可根据用户的需求,定制所需分子量、固含量的PMMA胶。) |
PMMA(polymethyl methacrylate)是电子束曝光工艺中常用的正性挂面光刻胶,是由单体甲基丙烯酸甲酯(methyl methacrylate, MMA)经聚合反应而成。
PMMA胶主要的特点是高分辨率、高对比度、低灵敏度。
PMMA胶种类齐全,不同的系列中包含了各种分子量(50K, 200K, 600K, 950K),各种溶剂(氯苯,乳酸乙酯,苯甲醚)以及各种固含量的PMMA胶,以满足各类电子束光刻的工艺要求。
PMMA胶可用于单层或双层电子束曝光、转移碳纳米管或石墨烯、绝缘层等多种工艺。
(注:工厂可根据用户的需求,定制所需分子量、固含量的PMMA胶。)
类别:一种光刻胶
供应商:西安齐岳生物科技有限公司
用途:科研
参数信息 | |
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外观状态: | 固体或粉末 |
质量指标: | 95%+ |
溶解条件: | 有机溶剂/水 |
CAS号: | N/A |
分子量: | N/A |
储存条件: | -20℃避光保存 |
储存时间: | 1年 |
运输条件: | 室温2周 |
生产厂家: | 西安齐岳生物科技有限公司 |
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KrF深紫外光刻胶系列 DK2060 DK3030 DKN1100
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DK1089 DK1087 KrF深紫外光刻胶系列
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适合目前各种应用需要的电子束光刻胶。灵敏度高,是普通PMMA胶的3~ 4倍,对比度亦高于PMMA。 PMMA/MA共聚物也可以和PMMA通过双层工艺实现lift-off工艺。
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超高分辨率电子束正胶,通过简单的工艺即可得到10nm甚至更小的结构。超高深宽比(20:1)、超高对比度(>15)。良好的耐干法刻蚀性能,是传统PMMA胶的2倍。 完全可以取代ZEP胶,经济实惠,并且采购简单,包装规格多样化。