您当前所在位置:首页 > 功能化学 > 发光材料 > 功能性发光材料 > 光刻胶系列 > AR-N 2200 负性光刻胶
AR-N 2200 负性光刻胶

AR-N 2200 适合喷涂的负性光刻胶,高灵敏度。胶层表面非常平整,且可很好的保护粗糙的衬底表面,可用于复杂工艺。

货号 规格 数量 价格
Q-0101353 100mg
1
询价
Q-0101353 250mg
1
询价
Q-0101353 500mg
1
询价
Q-0101353 1g
1
询价
Q-0101353 5g
1
询价
快速订购/大包装咨询
张惠宁销售经理
17778955912
1521565887
{$sources->name}}
业务范围:AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG
如该产品产生售后问题,请联系我们:

1521565887@qq.com

产品介绍

AR-N 2200 适合喷涂的负性光刻胶,高灵敏度。胶层表面非常平整,且可很好的保护粗糙的衬底表面,可用于复杂工艺。
类别:一种光刻胶
供应商:西安齐岳生物科技有限公司
用途:科研

参数信息
外观状态: 固体或粉末
质量指标: 95%+
溶解条件: 有机溶剂/水
CAS号: N/A
分子量: N/A
储存条件: -20℃避光保存
储存时间: 1年
运输条件: 室温2周
生产厂家: 西安齐岳生物科技有限公司
相关产品

KrF深紫外光刻胶系列 DK2060 DK3030 DKN1100

DK1089 DK1087 KrF深紫外光刻胶系列

图像反转胶 AR-U 4000 图形反转胶,通过调整工艺参数可实现正胶或负胶性能。图形反转工艺后,光刻胶呈现负胶性能,可以得到非常明星的倒梯形结果,用于lift-off工艺。

AR-P 5300 Lift-off工艺用胶,利用普通的光刻工艺便可很容易得进行剥离工艺。高敏感、高分辨率, 且与金属和氧化物表面附着良好。