AR-N 4400 厚胶，化学放大胶，可以替代传统的SU8胶
AR-N 4400 厚胶，化学放大胶，可以做lift-off工艺。 i线、g线、深紫外、X-ray、电子束等都可以实现曝光。涂胶厚度从几十微米到上百微米，覆盖能力好，可用于表面粗糙的wafer表面涂覆，且剖面陡直，高分辨率。化学放大胶，灵敏度也非常高。可用于LIGA、电镀等工艺。 采用碱性水溶液显影，除胶非常容易，可以替代传统的SU8胶。
| 货号 | 规格 | 数量 | 价格 |
|---|---|---|---|
| Q-0101356 | 100mg |
1
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询价 |
| Q-0101356 | 250mg |
1
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询价 |
| Q-0101356 | 500mg |
1
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询价 |
| Q-0101356 | 1g |
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| Q-0101356 | 5g |
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询价 |
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张惠宁销售经理
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业务范围：AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG
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AR-N 4400 厚胶，化学放大胶，可以做lift-off工艺。 i线、g线、深紫外、X-ray、电子束等都可以实现曝光。涂胶厚度从几十微米到上百微米，覆盖能力好，可用于表面粗糙的wafer表面涂覆，且剖面陡直，高分辨率。化学放大胶，灵敏度也非常高。可用于LIGA、电镀等工艺。 采用碱性水溶液显影，除胶非常容易，可以替代传统的SU8胶。
类别：一种光刻胶
供应商：西安齐岳生物科技有限公司
用途：科研
| 参数信息 | |
|---|---|
| 外观状态： | 固体或粉末 |
| 质量指标： | 95%+ |
| 溶解条件： | 有机溶剂/水 |
| CAS号： | N/A |
| 分子量： | N/A |
| 储存条件： | -20℃避光保存 |
| 储存时间： | 1年 |
| 运输条件： | 室温2周 |
| 生产厂家： | 西安齐岳生物科技有限公司 |
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