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CVD硅基底石墨烯膜 2.5cm x 2.5cm,CVD Silicon Substrate Graphene Film 2.5cmx2.5cm

CVD硅基底石墨烯膜2.5cm x 2.5cm是通过化学气相沉积(CVD)法在硅基底上制备的石墨烯薄膜,尺寸为2.5cm x 2.5cm。

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产品介绍

产品名称:CVD硅基底石墨烯膜 2.5cm x 2.5cm,CVD Silicon Substrate Graphene Film 2.5cmx2.5cm
一、基本描述
中文名:CVD硅基底石墨烯膜 2.5cm x 2.5cm
英文名:CVD Silicon Substrate Graphene Film 2.5cm x 2.5cm
CVD硅基底石墨烯膜2.5cm x 2.5cm是通过化学气相沉积(CVD)法在硅基底上制备的石墨烯薄膜,尺寸为2.5cm x 2.5cm。它被广泛应用于各种光电器件、微电子器件以及高性能传感器中。
二、物理化学性质及应用
物理化学性质:
此类石墨烯膜在导电性、热导性及电子迁移率方面表现优良。硅基底提供了稳定的支持,并确保石墨烯膜在高温下的热稳定性。由于石墨烯的高导电性,这些膜在电子、光电及能量存储领域具有较好的性能表现。
结构特性:
石墨烯膜的厚度通常为1-2个原子层,通过CVD法沉积在硅基底上,通常形成单层或少层结构。石墨烯膜具有高质量的结晶结构和均匀的分布,适用于多种高精度应用。
应用:
CVD硅基底石墨烯膜2.5cm x 2.5cm适用于高频电子器件、透明导电膜、光电器件、传感器、集成电路等领域。其高导电性、机械强度和稳定性使其在纳米技术、光电子学以及新能源领域有着重要应用。
三、合成路线
CVD硅基底石墨烯膜通过将碳源气体(如甲烷)与氢气、氩气等气体混合,在高温下利用催化剂(如铜、镍)分解碳源气体,并沉积石墨烯膜在硅基底表面。反应条件的调控可以精确控制石墨烯膜的厚度和质量,常用于制造单层或少层石墨烯薄膜。
厂家:西安齐岳生物科技有限公司
用途:科研
温馨提醒:产品仅供科研,不能用于人体实验!

关于我们
西安齐岳生物科技有限公司是一家专注于高品质荧光染料及其标记衍生物研发、生产和销售的创新型企业。公司主要产品涵盖FITC、Cy3、Cy5、Cy5.5、Cy7、Alexa系列、Rhodamine、TRITC、ICG等多种主流荧光探针,广泛应用于生命科学研究、细胞成像、药物靶向示踪、免疫检测、纳米材料标记及荧光传感等多个领域。齐岳生物依托先进的技术研发团队和完善的生产设施,为全球科研工作者提供高纯度、高活性、批次一致性好的荧光标记试剂。我们还提供定制化服务,满足不同客户在小分子、肽类、多糖、蛋白、聚合物等化合物标记方面的需求,帮助客户实现精准高效的荧光分析和示踪实验。

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参数信息
外观状态: 固体或粉末
质量指标: 95%+
溶解条件: 有机溶剂/水
CAS号: N/A
分子量: N/A
储存条件: -20℃避光保存
储存时间: 1年
运输条件: 室温2周
生产厂家: 西安齐岳生物科技有限公司
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