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铜基六角氮化硼多层薄膜,Multilayer Hexagonal Boron Nitride Film on Copper Substrate

铜基六角氮化硼多层薄膜采用CVD技术逐层沉积制备,单层厚度控制在0.3-0.5nm范围内,总层数可根据需求调节。

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产品介绍

铜基六角氮化硼多层薄膜采用CVD技术逐层沉积制备,单层厚度控制在0.3-0.5nm范围内,总层数可根据需求调节。该材料继承了单层薄膜的高结晶度特性,同时通过多层结构增强介电强度与化学稳定性,其击穿场强达8MV/cm,在300℃高温下仍保持绝缘性能。薄膜转移至硅基或柔性基底后,可作为高频器件的隔离层,降低寄生电容并提升信号传输效率。在热管理领域,其横向热导率达30W/m·K,可用于制备高功率电子器件的散热界面材料,延长设备使用寿命。
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供应商:西安齐岳生物科技有限公司
公司简介:
西安齐岳生物科技有限公司深耕无机纳米材料领域,精心打造多元化产品矩阵。核心产品包括:高分散性金/银纳米线、超均匀球形二氧化硅纳米颗粒、纳米氧化铟、生物相容性四氧化三铁磁性纳米粒子、荧光量子点(CdSe/ZnS、CdTe等)、多孔金属有机框架(MOF)纳米材料,以及表面功能化修饰的纳米载体(如叶酸/生物素偶联纳米颗粒、多刺激响应型智能纳米胶囊)。产品粒径精准可控(5-2000纳米),支持定制化开发。
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参数信息
外观状态: 固体或粉末
质量指标: 95%+
溶解条件: 有机溶剂/水
CAS号: N/A
分子量: N/A
储存条件: -20℃避光保存
储存时间: 1年
运输条件: 室温2周
生产厂家: 西安齐岳生物科技有限公司
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