光固化胶 Ormo系列 g/h/i-Line
光固化胶 Ormo系列 g/h/i-Line
货号 | 规格 | 数量 | 价格 |
---|---|---|---|
Q-0101358 | 100mg |
1
|
询价 |
Q-0101358 | 250mg |
1
|
询价 |
Q-0101358 | 500mg |
1
|
询价 |
Q-0101358 | 1g |
1
|
询价 |
Q-0101358 | 5g |
1
|
询价 |
快速订购/大包装咨询
张惠宁销售经理

业务范围:AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG
如该产品产生售后问题,请联系我们:
产品介绍
产品名称:光固化胶
类型 |
光刻胶型号 |
适用光谱 |
厚度范围/um |
分辨率 |
适用工艺 |
可用显影液 |
可用去胶液 |
光固化胶 |
Ormo系列 |
g/h/i-Line |
0.1-300 |
50nm |
适用于制造光栅、微型镜片、光耦合器和连接器等 |
|
|
长兴 |
待定 |
|
|
参数信息 | |
---|---|
外观状态: | 固体或粉末 |
质量指标: | 95%+ |
溶解条件: | 有机溶剂/水 |
CAS号: | N/A |
分子量: | N/A |
储存条件: | -20℃避光保存 |
储存时间: | 1年 |
运输条件: | 室温2周 |
生产厂家: | 西安齐岳生物科技有限公司 |
相关产品
-
KrF深紫外光刻胶系列 DK2060 DK3030 DKN1100
-
DK1089 DK1087 KrF深紫外光刻胶系列
-
紫外负胶(厚胶),适用于LIGA及MEMS应用,涂胶厚度 10um@1000rpm。SX AR-N 4600-10/3 : 结构稳定性好、重复性好,厚度可达几百微米,适用于保留胶体结构的应用,SX AR-N 4650-10/4 : 容易去胶,适合于电铸工艺。
-
AR-N 4400 厚胶,化学放大胶,可以做lift-off工艺。 i线、g线、深紫外、X-ray、电子束等都可以实现曝光。涂胶厚度从几十微米到上百微米,覆盖能力好,可用于表面粗糙的wafer表面涂覆,且剖面陡直,高分辨率。化学放大胶,灵敏度也非常高。可用于LIGA、电镀等工艺。 采用碱性水溶液显影,除胶非常容易,可以替代传统的SU8胶。