您当前所在位置:首页 > 材料科学 > 无机纳米 > 二维材料 > CVD生长材料 > 二硒化钯(PdSe₂)CVD二维薄膜
二硒化钯(PdSe₂)CVD二维薄膜

二硒化钯(PdSe₂)是一种具有五重层结构(pentagonal layered structure)的二维材料,与常见的TMDCs相比,PdSe₂晶体结构更为复杂,其层由Se–Pd–Se–Pd–Se构成,具有独特的对称性和各向异性。PdSe₂单层为间接带隙半导体(约1.3 eV),随着层数增加其带隙逐渐减小并趋近金属性,表现出明显的层依赖电子特性。

货号 规格 数量 价格
Q-0355243 100mg
1
询价
Q-0355243 250mg
1
询价
Q-0355243 500mg
1
询价
Q-0355243 1g
1
询价
Q-0355243 5g
1
询价
快速订购/大包装咨询
张惠宁销售经理
17778955912
1521565887
{$sources->name}}
业务范围:AIE材料 | 荧光产品 | MOF产品 | 二维纳米 | 糖化学 | 凝集素 | PEG
如该产品产生售后问题,请联系我们:

1521565887@qq.com

产品介绍

二硒化钯(PdSe₂)CVD二维薄膜

二硒化钯(PdSe₂)是一种具有五重层结构(pentagonal layered structure)的二维材料,与常见的TMDCs相比,PdSe₂晶体结构更为复杂,其层由Se–Pd–Se–Pd–Se构成,具有独特的对称性和各向异性。PdSe₂单层为间接带隙半导体(约1.3 eV),随着层数增加其带隙逐渐减小并趋近金属性,表现出明显的层依赖电子特性。

CVD制备PdSe₂二维薄膜通常采用两步工艺:

首先在衬底上热蒸发一层超薄钯(Pd)金属膜,然后在硒蒸汽中硒化形成PdSe₂薄膜。反应温度一般在400–600°C之间,采用密闭石英管炉或封装反应系统以确保Se蒸气充分参与反应。PdSe₂ CVD薄膜的形貌可呈现多边形、矩形或条带状,厚度可调,结晶性强。

PdSe₂具有出色的环境稳定性和电学性能,其FET器件在空气中可长期稳定运行,迁移率在室温下可达100 cm²/V·s以上。其优异的气敏性能(特别是NO₂、NH₃等气体)使其在气体传感器领域具有应用前景。此外,PdSe₂的宽带吸收特性也使其成为发展宽光谱探测器、光电二极管和红外成像器件的理想材料。

由于PdSe₂的结构特殊,其生长控制较其他TMDC材料更具挑战,尤其是在确保层间排列一致性、避免Pd未完全硒化等方面仍需优化。目前,研究聚焦于低温CVD、界面修饰、应力调控以及异质结构(如PdSe₂/MoS₂、PdSe₂/graphene)的集成应用开发。

随着CVD技术的进步和对PdSe₂材料机制的深入理解,该材料有望成为新一代高性能二维电子与传感器件的关键材料之一。

运输说明:
低温产品:低温产品运输过程中加装冰袋运输。
常温产品:常温产品运输过程中无需加冰或者特殊包装
相关推荐:
CVD TMDC 二维薄膜:
TL-400原位TEM液体芯片
TBL-500原位SEM液体芯片
TEM纳米孔氮化硅薄膜
TEM微孔氮化硅薄膜
TEM多窗格氮化硅薄膜
TEM单窗格氮化硅薄膜
SEM氮化硅膜窗格

参数信息
外观状态: 固体或粉末
质量指标: 95%+
溶解条件: 有机溶剂/水
CAS号: N/A
分子量: N/A
储存条件: -20℃避光保存
储存时间: 1年
运输条件: 室温2周
生产厂家: 西安齐岳生物科技有限公司
相关产品

二硫化钼(MoS2)是一种典型的层状过渡金属二硫属化物(TMDC),其单层结构由一个钼原子夹在两个硫原子之间构成S–Mo–S三明治式结构。层与层之间通过范德华力结合,易于剥离形成单层或少层二维结构。单层MoS₂具有直接带隙(约1.8 eV),而体相MoS2为间接带隙(约1.2 eV),这一带隙转变使其在电子与光电子领域具有独特优势。

二硫化钨(WS₂)是另一种重要的过渡金属二硫化物(TMDCs),其晶体结构与MoS₂类似,属于六方晶系,单层结构为S–W–S三明治式。单层WS₂具有约2.0 eV的直接带隙,光吸收性能优于MoS₂,并具有更强的光致发光能力。因其优异的光电性能与较强的抗环境氧化能力,WS₂被广泛研究用于光电器件、催化、电池及气体传感器等领域。

CVD-PtS2连续薄膜-(多层) 1cm*1cm

CVD-二维类石墨烯产品-钨掺杂M1相VO2单晶薄膜