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CVD氧化铝基单层二硫化钨,Monolayer Tungsten Disulfide Film on CVD Aluminum Oxide Substrate

CVD氧化铝基单层二硫化钨采用CVD工艺在氧化铝基底上制备单层二硫化钨(WS₂),形成二维过渡金属硫化物结构。

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产品介绍

CVD氧化铝基单层二硫化钨采用CVD工艺在氧化铝基底上制备单层二硫化钨(WS₂),形成二维过渡金属硫化物结构。WS₂由钨原子层与硫原子层交替堆叠,单层厚度约0.7nm,具有直接带隙半导体特性(带隙约2.0eV)。氧化铝基底的高热稳定性(熔点超2000℃)与化学惰性,为WS₂生长提供稳定环境,减少杂质掺入。该薄膜在550nm波长处透光率达75%以上,方阻可调至kΩ量级,适用于光电探测、发光二极管及逻辑电路等场景。其表面粗糙度Ra小于0.5nm,可与金属电极形成低接触电阻界面,提升器件性能。此外,氧化铝基底兼容微纳加工工艺,便于实现规模化集成。
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供应商:西安齐岳生物科技有限公司
公司简介:
西安齐岳生物科技有限公司深耕无机纳米材料领域,精心打造多元化产品矩阵。核心产品包括:高分散性金/银纳米线、超均匀球形二氧化硅纳米颗粒、纳米氧化铟、生物相容性四氧化三铁磁性纳米粒子、荧光量子点(CdSe/ZnS、CdTe等)、多孔金属有机框架(MOF)纳米材料,以及表面功能化修饰的纳米载体(如叶酸/生物素偶联纳米颗粒、多刺激响应型智能纳米胶囊)。产品粒径精准可控(5-2000纳米),支持定制化开发。
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参数信息
外观状态: 固体或粉末
质量指标: 95%+
溶解条件: 有机溶剂/水
CAS号: N/A
分子量: N/A
储存条件: -20℃避光保存
储存时间: 1年
运输条件: 室温2周
生产厂家: 西安齐岳生物科技有限公司
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